Apparatus for coating a substrate

Abstract

Abstract Translated from German Bei einer Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats (1) mit elektrisch leitenden Materialien (2), umfassend eine Gleichstrom- und/oder eine Wechselstromquelle (10 bzw. 38), die an eine in einer evakuierbaren Beschichtungs­kammer (15, 15a, 15b) angeordnete Elektrode (44) ange­schlossen ist, die elektrisch mit einem Target (43) in Verbindung steht, das zerstäubt wird und dessen zerstäubte Teilchen sich auf dem Substrat (1) niederschlagen, wobei in die Beschichtungskammer (15, 15a, 15b) ein Prozeßgas einbringbar ist und wobei toroidförmige Magnetfelder durch das Target hindurchgreifen, deren Feldlinien im Bereich der Magnetpole (45, 46 47) aus der Oberfläche des Targets (43) austreten, weist das Target (43) eine im wesentlichen längliche, parallelepipede Form auf, wobei die einander diametral gegenüberliegenden schmalen Stirnflächen bogen­förmig abgerundet sind, so daß sich eine ovale Grundfläche ergibt, und ist außerdem von einer Dunkelraumabschirmung (34) umschlossen ist, deren dem Substrat (1) zugewandte, umlaufende Stirnfläche (35) geringfügig gegenüber der Vor­derfläche des Targets (34) zurückversetzt ist, wobei die in einer Kathodenwanne (4) angeordnete, auf einem Joch (48) gehaltene Magnetanordnung aus einer mittleren, sich in Targetlängsrichtung erstreckenden Reihe von schmalen Magneten (46), einer weiteren an der Randpartie des Jochs (6, 48) angeordneten endlosen Reihe von schmalen Magneten (45, 47) und zwei Rundmagneten gebildet ist, die sich je­weils an jedem Ende der mittleren Reihe von Magneten (46) befinden. In a device for coating a substrate (1) with electrically conductive materials (2), comprising a direct current and / or an alternating current source (10 or 38), which is connected to an electrode arranged in an evacuable coating chamber (15, 15a, 15b) (44) is connected, which is electrically connected to a target (43) which is atomized and whose atomized particles are deposited on the substrate (1), a process gas being able to be introduced into the coating chamber (15, 15a, 15b) and wherein toroidal magnetic fields extend through the target, the field lines of which emerge from the surface of the target (43) in the area of the magnetic poles (45, 46 47), the target (43) has an essentially elongated, parallelepiped shape, the diametrically opposite one another narrow end faces are rounded in an arc, so that there is an oval base, and is also surrounded by a dark room shield (34), the The peripheral end face (35) facing the substrate (1) is set back slightly from the front face of the target (34), the magnet arrangement arranged in a cathode trough (4) and held on a yoke (48) from a central longitudinal direction in the target extending row of narrow magnets (46), a further endless row of narrow magnets (45, 47) arranged on the edge part of the yoke (6, 48) and two round magnets, each of which is located at each end of the middle row of magnets ( 46).

Inventors

• 👤 Rudolf Dr. Latz
• 👤 Michael Dr. Scherer

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