System to control the form of a charged particle beam

Abstract

Abstract Translated from French Système permettant de maîtriser la forme d'un faisceau de particules chargées. Le faisceau de particules est issu d'une source (58) de ces particules. Cette source est associée à une électrode collectrice qui collecte les particules. Le système comprend au moins une zone résistive (56) et au moins deux électrodes de commande (52, 54), cette zone résistive et ces électrodes de commande étant disposées sensiblement au même niveau que la source, ces électrodes de commande étant en outre placées de part et d'autre de la zone résistive et prévues pour polarier celle-ci, le profil de résistance électrique de la zone résistive étant choisi de façon à avoir la répartition de potentiel permettant d'obtenir la forme voulue du faisceau issu de la source lorsque les électrodes de commande sont convenablement polarisées. Application à la focalisation d'un faisceau de particules chargées. <IMAGE> System for controlling the shape of a beam of charged particles. The particle beam comes from a source (58) of these particles. This source is associated with a collecting electrode which collects the particles. The system comprises at least one resistive zone (56) and at least two control electrodes (52, 54), this resistive zone and these control electrodes being arranged substantially at the same level as the source, these control electrodes being additionally placed on either side of the resistive zone and provided for polarizing the latter, the electrical resistance profile of the resistive zone being chosen so as to have the potential distribution making it possible to obtain the desired shape of the beam coming from the source when the control electrodes are suitably polarized. Application to the focusing of a beam of charged particles. <IMAGE>

Inventors

• 👤 Thierry Leroux
• 👤 Christophe Py

Bibliographic Details