Device for etching or crating

Abstract

Abstract Translated from German Ätz-oder Beschichtungsanlage mit einem Vakuumrezipienten (1) und einem Paar beabstandeter Elektroden (5, 9) zur Erzeugung einer kapazitiven Plasmaentladung im Repizienten (1). Die den Rezipienten umspannende Wandung (3) ist in zwei voneinander isolierte (7) Teile (5, 9) unterteilt, die beide der elektrischen Signalübertragung an ihre innenliegenden, als Elektrodenflächen (F A , F B ) dienenden Flächen dienen, wobei mit der Unterteilung der Rezipientenwandung (3) gesteuert wird, welche der Elektroden (5, 9) abgetragen bzw. welche beschichtet wird und ein Verfahren zum Zünden von Plasmaentladungen und deren intermittierendem Betrieb. Etching or coating system with a vacuum recipient (1) and a pair of spaced electrodes (5, 9) for generating a capacitive plasma discharge in the repeater (1). The wall (3) spanning the recipient is subdivided into two (7) parts (5, 9) which are insulated from one another, both of which serve for electrical signal transmission to their inner surfaces serving as electrode surfaces (F A , F B ), with the subdivision the recipient wall (3) is controlled, which of the electrodes (5, 9) is removed or which is coated, and a method for igniting plasma discharges and their intermittent operation.

Inventors

• 👤 Klaus Dr. Wellerdieck

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